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ナノスケール領域の局所的イオン配列の解析 試料に対する電子の入射方位を高度に制御して、試料から発生する特性Ｘ線強度の変化を測定する。右図はイオン照射を施したスピネル化合物の電子顕微鏡写真と、領域(a),(b),(c)から得られた電子回折図形、Ｘ線強度変化を示す。照射イオンは表面から領域(b)付近まで到達している。電子顕微鏡写真と電子回折図形では、領域(a)(c)に全く違いが見られないが、Ｘ線強度変化は大きく変わっており、イオンの配列が照射によって変化していることが定量的にわかる。  電顕の役割とナノテクノロジーへの貢献は？ 材料の物性は材料の巨視的組織、微視的組織および電子構造などに支配されており、電子顕微鏡は次世代の材料や新しい機能の開発には必須の基盤技術である。 
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